תכשיר ניקוי רגיש אור המכיל חומצה גלוקונית לעיבוד התקנים רב–מתכתיים - פטנט 212374 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 212374
שם האמצאה:: תכשיר ניקוי רגיש אור המכיל חומצה גלוקונית לעיבוד התקנים רב–מתכתיים
שם באנגלית:: GLUCONIC ACID CONTAINING PHOTORESIST CLEANING COMPOSITION FOR MULTI-METAL DEVICE PROCESSING

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2010/062508	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
28/10/2008	דין קדימה	61/108942	ארה"ב (US)
22/10/2009	בקשה בינלאומית	PCT/US/2009/061585	ארה"ב (US)
14/04/2011	בקשת PCT	212374	ישראל (IL)
30/06/2011	פרסום לאומי	212374	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

C11D: כימיה, מטלורגיה > שמנים מהחי או מהצומח, שומנים, חומרים שומניים או שעווה; חומצות שומן מכך; חומרי ניקוי; נרות

מגיש

שם:: AVANTOR PERFORMANCE MATERIALS, INC.

מגיש/ממציא

שם:: INAOKA, SEIJI

פטנטים דומים