כללי
מספר פטנט:
165758
שם האמצאה:
תהליך לצריבת שכבות דיאלקטריות בעלות תכונות רזיסט ופרופיל צריבה משופרים
שם באנגלית:
PROCESS FOR ETCHING DIELECTIC FILMS WITH IMPROVED RESIST AND/OR ETCH PROFILE CHARACTERISTICS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
בקשה לאומית 165758 ישראל (IL)
פרסום לאומי 165758 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
LAM RESEARCH CORPORATION