התקן להקצאת נקודת תצפית בפרוסת מוליך למחצה ושיטה להקצאות מיקום תצוגה בפרוסת מוליך למחצה - פטנט 161627 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 161627
שם האמצאה:: התקן להקצאת נקודת תצפית בפרוסת מוליך למחצה ושיטה להקצאות מיקום תצוגה בפרוסת מוליך למחצה
שם באנגלית:: WAFER OBSERVATION POSITION DESIGNATING APPARATUS, AND WAFER DISPLAY POSITION DESIGNATING METHOD

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2003/041159	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
06/11/2001	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2001/009679	יפן (JP)
26/04/2004	בקשת PCT	161627	ישראל (IL)
09/11/2004	פרסום לאומי	161627	ישראל (IL)

מגיש

שם:: TOKYO SEIMITSU CO., LTD.

פטנטים דומים