כללי
מספר פטנט:
132431
שם האמצאה:
שיטה והתקן לשליטה מידת חשיפה שיטה והתקן לחשיפה ושיטה לייצור ההתקן
שם באנגלית:
METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE CONTROL METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE AND METHOD OF MANUFACTURE OF DEVICE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 1998/048452 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 9-116255 יפן (JP)
דין קדימה 9-109748 יפן (JP)
דין קדימה 9-124527 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/1998/001777 יפן (JP)
בקשת PCT 132431 ישראל (IL)
פרסום לאומי 132431 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION