מבנה ושיטה ליצור התקנים מיקרואלקטרוניים בסביבה אולטרה-נקייה - פטנט 107865 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 107865
שם האמצאה:: מבנה ושיטה ליצור התקנים מיקרואלקטרוניים בסביבה אולטרה-נקייה
שם באנגלית:: A BUILDING AND A METHOD FOR MANUFACTURING MICROELECTRONIC DEVICES

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
14/09/1993	דין קדימה	121621	ארה"ב (US)
03/12/1993	בקשה לאומית	107865	ישראל (IL)
05/12/1996	פרסום לאומי	107865	ישראל (IL)

מגיש

שם:: SEMATECH, INC.
כתובת:: 2706 MONTOPOLIS DRIVE AUSTIN, TEXAS , US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: וולף, ברגמן וגולר
כתובת:: ירושלים 91013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 02-6242255
פקס:: 6242266

סוכן

שם:: וולף, ברגמן וגולר
כתובת:: ירושלים 91013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 02-6242255
פקס:: 6242266

מסמכים

פטנטים דומים