תרכובת נוזלים לניקוי, שיטה לניקוי רכיב מוליך למחצה ושיטה לייצורו - פטנט 236135 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 236135
שם האמצאה:: תרכובת נוזלים לניקוי, שיטה לניקוי רכיב מוליך למחצה ושיטה לייצורו
שם באנגלית:: CLEANING LIQUID COMPOSITION, METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2013/187313	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
13/06/2012	דין קדימה	2012-134037	יפן (JP)
06/06/2013	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2013/065738	יפן (JP)
08/12/2014	בקשת PCT	236135	ישראל (IL)
29/01/2015	פרסום לאומי	236135	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

פטנטים דומים