תרחיף לליטוש כימי מכני ושיטת ליטוש כימי מכני - פטנט 235859 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 235859
שם האמצאה:: תרחיף לליטוש כימי מכני ושיטת ליטוש כימי מכני
שם באנגלית:: SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2013/180079	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
30/05/2012	דין קדימה	123472/2012	יפן (JP)
27/05/2013	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2013/064676	יפן (JP)
23/11/2014	בקשת PCT	235859	ישראל (IL)
29/01/2015	פרסום לאומי	235859	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: KURARAY CO, LTD

פטנטים דומים