תהליך לסינטור ננו חלקיקים בטמפרטורה נמוכה - פטנט 215192 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 215192
שם האמצאה:: תהליך לסינטור ננו חלקיקים בטמפרטורה נמוכה
שם באנגלית:: PROCESS FOR SINTERING NANOPARTICLES AT LOW TEMPERATURES

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2010/109465	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
24/03/2009	דין קדימה	61/162744	ארה"ב (US)
24/03/2010	בקשה בינלאומית	PCT/IL/2010/000249	ישראל (IL)
18/09/2011	בקשת PCT	215192	ישראל (IL)
29/12/2011	פרסום לאומי	215192	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

C23C: כימיה, מטלורגיה > ציפוי חומרים מתכתיים; ציפוי חומרים עם חומר מתכתי; טיפול כימי במשטח; טיפול דיפוזיה של חומר מתכתי; ציפוי באמצעות אידוי בריק, ע"י התזה, ע"י השרשת יונים או ע"י ריבוץ באדים כימיים, באופן כללי; מניעת קורוזיה של חומר מתכתי או הקרמה באופן כללי

מגיש

שם:: YISSUM RESEARCH DEVELOPMENT COMPANY OF THE HEBREW UNIVERSITY OF JERUSALEM LTD.

פטנטים דומים