תכשיר גורם טיפול משטח מוליך למחצה ושיטה לטיפול במשטח מוליך למחצה המשתמשת בתכשיר גורם טיפול משטח מוליך מחצה פטנט 207988
כללי
מספר פטנט:
207988
שם האמצאה:
תכשיר גורם טיפול משטח מוליך למחצה ושיטה לטיפול במשטח מוליך למחצה המשתמשת בתכשיר גורם טיפול משטח מוליך מחצה
שם באנגלית:
SEMICONDUCTOR SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION AND METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR SURFACE USING THE SEMICONDUCTOR SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2009/110582
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה
JP2008-058816
יפן (JP)
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2009/054248
יפן (JP)
בקשת PCT
207988
ישראל (IL)
פרסום לאומי
207988
ישראל (IL)
סיווגים (IPC)
G03F : פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה