כללי
מספר פטנט:
196630
שם האמצאה:
תהליך לפליטת קרינת לייזר פולס ומקור לייזר קשור
שם באנגלית:
PROCESS OF EMISSION A RADIATION LASER PULSE AND SOURCE LASER ASSOCIATED
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
דין קדימה 0800387 צרפת (FR)
בקשה לאומית 196630 ישראל (IL)
פרסום לאומי 196630 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • H01S: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים
  מגיש
שם:
INSTITUT FRANCO-ALLEMAND DE RECHERCHE DE SAINT-LOUIS