כללי
מספר פטנט:
187121
שם האמצאה:
תכשירים להורדת שאריות שעברו חריטה ושאריות אפר של חומר פעיל אור וחומר פעיל אור
שם באנגלית:
COMPOSITIONS FOR THE REMOVAL OF POST-ETCH AND ASHED PHOTORESIST RESIDUES AND BULK PHOTORESIST
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/121580 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 60/678534 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/2006/014466 ארה"ב (US)
בקשת PCT 187121 ישראל (IL)
פרסום לאומי 187121 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה
  מגיש
שם:
AVANTOR PERFORMANCE MATERIALS, INC.
כתובת:
3477 CORPORATE PARKWAY CENTER VALLEY, PA 18034 , US
מדינה:
ארה"ב
  מסירת הודעות
שם:
איתן, מהולל ושדות
כתובת:
שדרות אבא אבן 10, הרצליה 46120
מדינה:
ישראל
טלפון:
099726000
פקס:
099726001
דוא"ל:
eitanmehulalpatents@ems-legal.com
  סוכן
שם:
איתן, מהולל ושדות
כתובת:
שדרות אבא אבן 10, הרצליה 46120
מדינה:
ישראל
טלפון:
099726000
פקס:
099726001
דוא"ל:
eitanmehulalpatents@ems-legal.com