כללי
מספר פטנט:
174002
שם האמצאה:
תהליך להכנת תולדות של חומצה 3, 5–דיהידרוקסי–6–הפטנואית בעלת דרגת נקיון גבוהה
שם באנגלית:
PROCESS FOR PRODUCING HIGH PURITY 3,5-DIHYDROXY-6-HEPTENOIC ACID DERIVATIVE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2005/033083 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2003-346019 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2004/014289 יפן (JP)
בקשת PCT 174002 ישראל (IL)
פרסום לאומי 174002 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES LTD.
כתובת:
7-1,KANDA NISHIKI-CHO 3-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 101-0054 , JP
מדינה:
יפן
  מגיש/ממציא
שם:
MASAMI YASUKAWA
  מגיש/ממציא
שם:
YUJI YOSHIMURA
  מגיש/ממציא
שם:
SYUJI MORIKIYO
  מגיש/ממציא
שם:
YASUTAKA TAKADA
  מגיש/ממציא
שם:
HIROO MATSUMOTO
  מסירת הודעות
שם:
איתן, מהולל ושדות
כתובת:
שדרות אבא אבן 10, הרצליה 46120
מדינה:
ישראל
טלפון:
099726000
פקס:
099726001
דוא"ל:
eitanmehulalpatents@ems-legal.com