כללי
מספר פטנט:
169135
שם האמצאה:
שיטה להנחת שכבת מתכת על מבנה של חיבור מוליך למחצה עם שכבה מעליו
שם באנגלית:
A METHOD FOR DEPOSITING A METAL LAYER ON A SEMICONDUCTOR INTERCONNECT STRUCTURE HAVING A CAPPING LAYER
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2004/053979 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 10/318606 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/EP/2003/050957 משרד הפטנטים האירופי (EP)
בקשת PCT 169135 ישראל (IL)
פרסום לאומי 169135 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
IBM CORPORATION