קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
מטרות ספוטריות פרומגנטיות בעלות טוהר גבוה ושיטה לייצורן
פטנט 165261
כללי
מספר פטנט:
165261
שם האמצאה:
מטרות ספוטריות פרומגנטיות בעלות טוהר גבוה ושיטה לייצורן
שם באנגלית:
HIGH PURITY FERROMAGNETIC SPUTTER TARGETS AND METHOD OF MANUFACTURE
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2003/102976
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
31/05/2002
דין קדימה
10/158164
ארה"ב (US)
13/05/2003
בקשה בינלאומית
PCT/US/2003/014750
ארה"ב (US)
16/11/2004
בקשת PCT
165261
ישראל (IL)
18/12/2005
פרסום לאומי
165261
ישראל (IL)
מגיש
שם:
PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.
פטנטים דומים
מטרות התזה מאלומיניום בעל טוהר גבוה
תהליך לייצור של 1,2,5,6,9,01 הקסהברומוציקלודודקאן בעל דרגת ניקיון גבוהה
מטרות ספטר בעלות אורך חיים מוארך
קליע מגנטי
שכבה בעלת ציפוי אחורי פרומגנטי