שיטה לשיקוע, מכשיר לשיקוע, קרום מבודד מעגל משולב של מוליך למחצה - פטנט 158094 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 158094
שם האמצאה:: שיטה לשיקוע, מכשיר לשיקוע, קרום מבודד מעגל משולב של מוליך למחצה
שם באנגלית:: DEPOSITION METHOD, DEPOSITION APPARATUS, INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2002/080260	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
28/03/2001	דין קדימה	2001-94037	יפן (JP)
04/07/2001	דין קדימה	2001-203688	יפן (JP)
25/03/2002	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2002/002837	יפן (JP)
24/09/2003	בקשת PCT	158094	ישראל (IL)
28/03/2004	פרסום לאומי	158094	ישראל (IL)

מגיש

שם:: KABUSHIKI KAISHA WATANABE SHOKO

מגיש

שם:: TAKASHI SUGINO

פטנטים דומים