כללי
מספר פטנט:
156979
שם האמצאה:
קרום פרואלקטרי דק, קרום מתכתי דק אוקרום תחמוצתי דק, שיטה והתקן להכנתם והתקן אלקטרוני או חשמלי המשתמש בקרומים אלו
שם באנגלית:
FERROELECTRIC THIN FILM, METAL THINFILM OR OXIDE THIN FILM, AND METHODAND APPARATUS FOR PREPARATION THEREOF, AND ELECTRIC OR ELECTRONICDEVICE USI
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2002/058129 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2001-010827 יפן (JP)
דין קדימה 2001-011070 יפן (JP)
דין קדימה 2001-049436 יפן (JP)
דין קדימה 2001-392833 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2002/000302 יפן (JP)
בקשת PCT 156979 ישראל (IL)
פרסום לאומי 156979 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
KABUSHIKI KAISHA WATANABE SHOKO