שיטה לצפיה בתנאי חשיפה לחשיפת התקן מוליך למחצה והמתקן שלו ושיטה לייצור התקן מוליך למחצה - פטנט 154504 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 154504
שם האמצאה:: שיטה לצפיה בתנאי חשיפה לחשיפת התקן מוליך למחצה והמתקן שלו ושיטה לייצור התקן מוליך למחצה
שם באנגלית:: METHOD OF OBSERVING EXPOSURE CONDITION FOR EXPOSING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
18/02/2002	דין קדימה	2002-039444	יפן (JP)
17/02/2003	בקשה לאומית	154504	ישראל (IL)
15/05/2007	פרסום לאומי	154504	ישראל (IL)

מגיש

שם:: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
כתובת:: 24-14,NISHISHINBASHI 1-CHOME MINATO-KU, TOKYO , JP
מדינה:: יפן

מסירת הודעות

שם:: לוצאטו את לוצאטו
כתובת:: גן תעשייה, עומר, באר שבע 84152
מדינה:: ישראל
טלפון:: 0732262626
פקס:: 073-2262627
דוא"ל:: ilpto@luzzatto.co.il

סוכן

שם:: לוצאטו את לוצאטו
כתובת:: גן תעשייה, עומר, באר שבע 84152
מדינה:: ישראל
טלפון:: 0732262626
פקס:: 073-2262627
דוא"ל:: ilpto@luzzatto.co.il

מסמכים

פטנטים דומים