קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
משקע סיליקה מאולח, תהליך להכנתו ושימוש בו
פטנט 147050
כללי
מספר פטנט:
147050
שם האמצאה:
משקע סיליקה מאולח, תהליך להכנתו ושימוש בו
שם באנגלית:
DOPED PRECIPITATED SILICA, PROCESS FOR ITS PREPARATION AND ITS USE
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
14/12/2000
דין קדימה
10062449.9
גרמניה (DE)
12/12/2001
בקשה לאומית
147050
ישראל (IL)
03/11/2008
פרסום לאומי
147050
ישראל (IL)
מגיש
שם:
EVONIK DEGUSSA GMBH
כתובת:
RELLINGHAUSER STRASSE 1-11 45128 ESSEN , DE
מדינה:
גרמניה
מסירת הודעות
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
סוכן
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
תביעות
פטנטים דומים
5-טריכלורומתילאיזוקטאזול,הכנתו והשימוש בו להכנת חומצה 5- איזוקסאזולקרבוקסילית
חומצה סוכרוז טריקרבוקסילית,שיטה להכנתה והשימוש בה
אצאילזה מקובעת, תהליך להכנתה והשימוש בה
דקאפפטיד מלחיו ותהליך להכנתו
ססקויגליפוסאט הנתרן, תהליך להכנתו והשימוש בו בתכשירים חקלאיים